Intel wdroży litografię 7 nm, 5 nm, a także 3 nm

28 marca Intelzaprezentował swoje nowe pomysły podczas konferencji prasowej w Pekinie. Firmaskupiła się nie tylko na najbliższych planach, lecz także na dalszejprzyszłości, w tym wdrażaniu nowych procesów litograficznych.

Intel podaje, że obecny, 10-nanometrowy proces litograficzny znalazł się na bardzo satysfakcjonującym poziomie. Do końca bieżącego roku rozpocznie się więc masowa produkcja procesorówwykonywanych w tym procesie. Technologia ta będzie tłem dla procesorów Ice Lake dla laptopów oraz serwerów, a także Snow Ridge dla 5G i nowych układów Lakefield.

Ale to nie wszystko, bowiem firma postanowiła pójść o krok dalej. Intel pochwalił się bowiem planami rozwoju procesów litograficznych. Skoro technologia 10-nanometrowa jest na zadowalającym poziomie, następnym krokiem będzie wdrożenie litografii 7 nm, 5 nm, a nawet 3 nm.

Oczywiście Intel po pierwsze nie podał widełekczasowych na wprowadzenie tych procesów do produkcji, po drugie – tworzenie w niższych technologiach litograficznych będzie wymagać wielu usprawnień w samym procesie produkcji układów tego typu.